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Kanzei米国 / HTSUS
HTSコード · 8桁

9031.41.00

2026年 第21次改訂
参考日本語訳

半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器

分類の条件を見る

測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器

For inspecting semiconductor wafers or devices (including integrated circuits) or for inspecting photomasks or reticles used in manufacturing semiconductor devices (including integrated circuits)

商品説明・参考キーワードについて

日本語は参考訳です。公式訳・分類の確定結果ではありません。分類・条件は併記した英語原文と公式資料をご確認ください。

第90章：光学・写真・映画・測定・検査・精密・医療機器とその部分品・附属品

関税率表の記載

一般税率（General）
無税Free
特別税率（Special）
記載なし（空欄）
第2欄税率（Column 2）
50%

空欄は0%や免税を意味しません。上位のコードに税率が記載されている場合があります。追加関税や原産国別措置を含む実効税率は表示していません。

階層と商品説明

  1. 9031
    参考日本語訳

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品

    Measuring or checking instruments, appliances and machines, not specified or included elsewhere in this chapter; profile projectors; parts and accessories thereof:

  2. 参考日本語訳

    その他の光学機器

    Other optical instruments and appliances:

  3. 9031.41.00
    参考日本語訳

    半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器

    For inspecting semiconductor wafers or devices (including integrated circuits) or for inspecting photomasks or reticles used in manufacturing semiconductor devices (including integrated circuits)

下位コード（最大100件）

  1. 9031.41.00.20
    参考日本語訳

    半導体デバイスの製造に使用するフォトマスク又はレチクルの検査用のもの

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器 ＞ 半導体デバイスの製造に使用するフォトマスク又はレチクルの検査用のもの

    For inspecting photomasks or reticles used in manufacturing semiconductor devices

  2. 9031.41.00.40
    参考日本語訳

    ウエハー用のもの

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイスの検査用のもの ＞ ウエハー用のもの

    For wafers

  3. 9031.41.00.60
    参考日本語訳

    その他

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイスの検査用のもの ＞ その他

    Other

同じ見出しの関連コード

  • 9031.10.00.00
    参考日本語訳

    釣合試験機

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ 釣合試験機

    Machines for balancing mechanical parts

  • 9031.20.00.00
    参考日本語訳

    テストベンチ

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ テストベンチ

    Test benches

  • 9031.41.00.20
    参考日本語訳

    半導体デバイスの製造に使用するフォトマスク又はレチクルの検査用のもの

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器 ＞ 半導体デバイスの製造に使用するフォトマスク又はレチクルの検査用のもの

    For inspecting photomasks or reticles used in manufacturing semiconductor devices

  • 9031.41.00.40
    参考日本語訳

    ウエハー用のもの

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイスの検査用のもの ＞ ウエハー用のもの

    For wafers

  • 9031.41.00.60
    参考日本語訳

    その他

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイスの検査用のもの ＞ その他

    Other

  • 9031.49.10.00
    参考日本語訳

    投影検査機

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ その他 ＞ 投影検査機

    Profile projectors

同じ4桁見出しに属するコードです。商品の互換性や分類の一致を示すものではありません。

このコードの変更履歴

  1. 9031.41.00変更
    2026-122026-13公開日 2026-07-29
    参考日本語訳

    半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器

    分類の条件を見る

    測定用又は検査用の機器（この類の他の項に該当するものを除く。）及び輪郭投影機並びにこれらの部分品及び附属品 ＞ その他の光学機器 ＞ 半導体ウエハー又は半導体デバイス（集積回路を含む。）の検査用の機器及びフォトマスク又はレチクル（半導体デバイス（集積回路を含む。）の製造に使用するものに限る。）の検査用の機器

    For inspecting semiconductor wafers or devices (including integrated circuits) or for inspecting photomasks or reticles used in manufacturing semiconductor devices (including integrated circuits)

    注記・その他属性の記載変更

    変更前 (2026-12)

    公式属性の値を表示
    {
  "superior": null,
  "footnotes": [
    {
      "type": "endnote",
      "value": "See 9903.88.01. ",
      "columns": [
        "general"
      ]
    }
  ],
  "quotaQuantity": null,
  "additionalDuties": null,
  "addiitionalDuties": null
}

    変更後 (2026-13)

    公式属性の値を表示
    {
  "superior": null,
  "footnotes": [],
  "quotaQuantity": null,
  "additionalDuties": null,
  "addiitionalDuties": null
}
データ出典：U.S. International Trade Commission（新しいタブ）